Standardprozesse + Dienstleistungen
Hahn-Schickard bietet im eigenen Reinraum einzelne oder kombinierte Prozessschritte der Mikrosystemtechnik auch als standardisierte Dienstleistungen an.
Im Reinraum der ISO-Klasse 4-7 betreibt Hahn-Schickard auf einer Fläche von insgesamt 1200 m² eine komplette Silizium-Fertigungslinie für 100 mm- und 150 mm-Wafer (teilweise bis 200mm). Die anlagentechnische Ausstattung stellt dabei sämtliche Prozesse der Silizium-Mikromechanik als stabile und qualifizierte Standardprozesse zur Verfügung. Die Prozesse werden durchgängig gemäß ISO 9001:2015 durchgeführt und dokumentiert. Die wichtigsten Prozesse sind: PVD, LPCVD, PECVD, CVD, thermische Oxidation, Trockenätzen (RIE, DRIE), Lithographie, nasschemische Prozesse, Wafer-bonden, elektrische Endkontrolle, automatische Inspektion (AOI) und Wafer dicing.
Fertigung von Mikrosystemen
Die Durchführung und Dokumentation sämtlicher Prozesse erfolgt von der Entwicklung bis zur Serienfertigung gemäß ISO 9001:2015. Produktspezifische Erweiterungen der Qualitätsnorm wurden in der Vergangenheit bereits für Kunden aus der Medizintechnik-, Automobil- oder Luftfahrtindustrie etabliert.
Sämtliche technologischen Prozesse der Silizium-Mikromechanik stehen in unserem Reinraum als qualifizierte Standardprozesse zur Verfügung. In unserer Fertigung bilden diese die Grundlage für bauteilspezifische Prozessfolgen zur Herstellung mikromechanische Komponenten.
